檢測(cè)項(xiàng)目

鈮含量測(cè)定、鉿含量測(cè)定、碳元素分析、氧元素分析、氮元素分析、氫元素分析、鐵雜質(zhì)檢測(cè)、鎳雜質(zhì)檢測(cè)、鉻雜質(zhì)檢測(cè)、鉬雜質(zhì)檢測(cè)、鎢雜質(zhì)檢測(cè)、鈦雜質(zhì)檢測(cè)、鋁雜質(zhì)檢測(cè)、硅雜質(zhì)檢測(cè)、硫雜質(zhì)檢測(cè)、磷雜質(zhì)檢測(cè)、銅雜質(zhì)檢測(cè)、鋅雜質(zhì)檢測(cè)、錳雜質(zhì)檢測(cè)、鈷雜質(zhì)檢測(cè)、釩雜質(zhì)檢測(cè)、鋯雜質(zhì)檢測(cè)、鉭雜質(zhì)檢測(cè)、鎘雜質(zhì)檢測(cè)、鉛雜質(zhì)檢測(cè)、砷雜質(zhì)檢測(cè)、錫雜質(zhì)檢測(cè)、硼雜質(zhì)檢測(cè)、稀土元素總量測(cè)定、氣體元素總量測(cè)定

檢測(cè)范圍

高溫合金鑄錠、核反應(yīng)堆包殼管材、航天發(fā)動(dòng)機(jī)葉片坯料、真空熔煉電極棒材、等離子噴涂粉末材料、電子束熔煉錠材、軋制板材規(guī)格件（0.5-50mm）、擠壓管材（φ10-500mm）、鍛造環(huán)件（φ200-2000mm）、3D打印成型件（SLM/DED工藝）、焊接接頭熔敷金屬區(qū)（TIG/EBW工藝）、表面滲層改性材料（滲氮/滲碳處理）、粉末冶金燒結(jié)體（HIP工藝）、單晶生長(zhǎng)試樣（Czochralski法）、定向凝固試棒（Bridgman爐）、腐蝕試驗(yàn)后試樣（高溫水蒸氣環(huán)境）、輻照后材料（中子輻照損傷研究）、回收料重熔試樣（二次熔煉驗(yàn)證）、鍍層截面分析樣（PVD/CVD鍍層）、斷口成分分析樣（SEM-EDS聯(lián)用）、微觀偏析區(qū)域取樣（枝晶間/枝晶干）、夾雜物富集區(qū)定點(diǎn)分析樣（非金屬夾雜評(píng)級(jí)）、梯度材料過渡層分析樣（功能梯度材料）、異種金屬焊接擴(kuò)散層分析樣（Nb-Hf/鋼接頭）、快速凝固薄帶試樣（熔體旋淬工藝）、超細(xì)晶材料試樣（等徑角擠壓工藝）、復(fù)合材料界面分析樣（Nb-Hf基復(fù)合材料）、單晶取向驗(yàn)證樣（EBSD分析配套）、疲勞裂紋擴(kuò)展區(qū)取樣（高周疲勞試驗(yàn)后）、蠕變損傷區(qū)域取樣（高溫持久試驗(yàn)后）

檢測(cè)方法

電感耦合等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES)：利用高頻感應(yīng)等離子體激發(fā)樣品原子發(fā)射特征譜線進(jìn)行定量分析，適用于0.001%-10%含量范圍的元素測(cè)定。

X射線熒光光譜法(XRF)：通過測(cè)量樣品受激產(chǎn)生的特征X射線進(jìn)行非破壞性分析，特別適用于固體塊狀樣品的快速篩查。

輝光放電質(zhì)譜法(GD-MS)：采用低壓氣體放電電離技術(shù)實(shí)現(xiàn)ppb級(jí)痕量元素的精確測(cè)定。

激光誘導(dǎo)擊穿光譜法(LIBS)：利用高能激光脈沖氣化樣品產(chǎn)生等離子體進(jìn)行原位分析，適合現(xiàn)場(chǎng)快速成分診斷。

火花源原子發(fā)射光譜法(Spark-AES)：通過高壓火花激發(fā)金屬樣品產(chǎn)生原子光譜進(jìn)行主量元素快速測(cè)定。

二次離子質(zhì)譜法(SIMS)：采用聚焦離子束濺射表面原子進(jìn)行微區(qū)成分分析，分辨率可達(dá)亞微米級(jí)。

俄歇電子能譜法(AES)：通過測(cè)量俄歇電子能量進(jìn)行表面1-3nm深度范圍內(nèi)的成分表征。

檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)

GB/T13747.27-2022鋯及鋯合金化學(xué)分析方法第27部分：鈮量的測(cè)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

ASTME2594-22用輝光放電原子發(fā)射光譜法分析金屬及氧化物中痕量金屬的標(biāo)準(zhǔn)指南

ISO14707:2021表面化學(xué)分析-輝光放電發(fā)射光譜法通則

GB/T4336-2016碳素鋼和中低合金鋼火花源原子發(fā)射光譜分析方法

ASTME1621-22用波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜法進(jìn)行元素分析的標(biāo)準(zhǔn)指南

ISO17054-2018用X射線熒光光譜法(XRF)近似技術(shù)分析高合金鋼的常規(guī)方法

GB/T20127.8-2020鋼鐵及合金痕量元素的測(cè)定第8部分：氫化發(fā)生-原子熒光光譜法測(cè)定銻含量

ASTME3061-22激光誘導(dǎo)擊穿光譜法(LIBS)金屬及合金成分分析標(biāo)準(zhǔn)指南

ISO18118:2022表面化學(xué)分析-俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中實(shí)驗(yàn)測(cè)定的相對(duì)靈敏度因子的使用指南

GB/T36590-2018金屬基復(fù)合材料高溫成分分析方法通則

檢測(cè)儀器

全譜直讀ICP光譜儀：配備中階梯光柵分光系統(tǒng)與CID陣列檢測(cè)器，可同步測(cè)定190-900nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)的多元素特征譜線。

波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀：采用多道彎晶分光系統(tǒng)與流氣正比計(jì)數(shù)器組合配置，配備銠靶端窗X光管(4kW)。

脈沖輝光放電質(zhì)譜儀：配置雙聚焦磁質(zhì)譜系統(tǒng)(質(zhì)量分辨率≥3000)，配備脈沖式射頻源(13.56MHz)及四級(jí)桿離子傳輸系統(tǒng)。

激光誘導(dǎo)擊穿光譜系統(tǒng)：集成Nd:YAG激光器(1064nm,200mJ)、中階梯光柵光譜儀(200-980nm)及ICCD探測(cè)器(2ns門控)。

火花發(fā)射光譜儀：采用氬氣沖洗火花臺(tái)設(shè)計(jì)，配備紫外光學(xué)系統(tǒng)(120-200nm)及PMT陣列探測(cè)器。

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡-能譜聯(lián)用系統(tǒng)(FESEM-EDS)：配備Schottky場(chǎng)發(fā)射電子槍(0.8nm分辨率)及硅漂移探測(cè)器(SDD)。

二次離子質(zhì)譜儀：配置液態(tài)金屬離子源(Ga+)、雙聚焦質(zhì)量分析器及多接收器系統(tǒng)。

俄歇電子能譜儀：配備同軸電子槍(10kV,10nA)、半球形能量分析器(能量分辨率0.3%)及多通道探測(cè)器。

檢測(cè)報(bào)告作用用作

銷售報(bào)告：出具正規(guī)第三方檢測(cè)報(bào)告讓客戶更加信賴自己的產(chǎn)品質(zhì)量，讓自己的產(chǎn)品更具有說服力。

研發(fā)使用：擁有優(yōu)秀的檢測(cè)工程師和先進(jìn)的測(cè)試設(shè)備，可降低了研發(fā)成本，節(jié)約時(shí)間。

司法服務(wù)：協(xié)助相關(guān)部門檢測(cè)產(chǎn)品，進(jìn)行科研實(shí)驗(yàn)，為相關(guān)部門提供科學(xué)、公正、準(zhǔn)確的檢測(cè)數(shù)據(jù)。

大學(xué)論文：科研數(shù)據(jù)使用。

投標(biāo)：檢測(cè)周期短，同時(shí)所花費(fèi)的費(fèi)用較低。

準(zhǔn)確性較高;工業(yè)問題診斷：較短時(shí)間內(nèi)檢測(cè)出產(chǎn)品問題點(diǎn)，以達(dá)到盡快止損的目的。

我們的承諾

　　北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所承諾：我們將根據(jù)不同產(chǎn)品類型的特點(diǎn)，并結(jié)合不同行業(yè)和國家的法規(guī)標(biāo)準(zhǔn)，選擇適當(dāng)?shù)臋z測(cè)項(xiàng)目和方法進(jìn)行分析測(cè)試，或根據(jù)您的要求進(jìn)行試驗(yàn)分析。為了不斷改進(jìn)我們的工作，我們致力于提高產(chǎn)品質(zhì)控分析、使用性能檢測(cè)能力，并持續(xù)加強(qiáng)我們團(tuán)隊(duì)的科研技術(shù)。同時(shí)，我們將積極跟進(jìn)新的技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn)，以最大程度地滿足您的需求和市場(chǎng)要求。